• C-linha central de 4inch 0.5mm Sapphire Crystal Wafer Single Crystal Epi-pronta
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C-linha central de 4inch 0.5mm Sapphire Crystal Wafer Single Crystal Epi-pronta

C-linha central de 4inch 0.5mm Sapphire Crystal Wafer Single Crystal Epi-pronta

Detalhes do produto:

Lugar de origem: CHINA
Marca: BonTek
Certificação: ISO:9001
Número do modelo: Safira (Al2O3)

Condições de Pagamento e Envio:

Quantidade de ordem mínima: 5 partes
Preço: Negociável
Detalhes da embalagem: Gaveta, frasco, pacote do filme
Tempo de entrega: 1-4 semanas
Termos de pagamento: T/T
Habilidade da fonte: 10000 partes/mês
Melhor preço Contato

Informação detalhada

Material: Sapphire Wafer Tipo: Único cristal
Cor: Branco/vermelho/azul Método do crescimento: Cristalização horizontalmente dirigida (HDC)
Superfície: Lado dobro polonês Escala do VIS: 85%
Aplicação: Bolacha de Semicondutor, microplaqueta conduzida, janela de vidro ótica, cerâmica eletrônica Indústria: Vidro conduzido, ótico, bolacha eli-pronta
Destacar:

bolacha de cristal 4inch de safira

,

Única bolacha de cristal de HDC

,

bolacha de cristal 0.5mm de safira

Descrição de produto

C-linha central crescida cristalização horizontalmente dirigida de Sapphire Wafer 4inch 0.5mm Epi-pronta

A única safira de cristal Al2O3 possui uma combinação original de propriedades óticas, físicas e químicas excelentes. A mais dura dos cristais do óxido, safira Al2O3 retém seu de grande resistência em altas temperaturas, tem boas propriedades térmicas e a transparência excelente. O sistema ótico de Sapphire Al 2O3 é quimicamente resistente a muitos ácidos e alcaloides em temperaturas até 1000 graus de C assim como ao HF abaixo de 300 graus de C. Estas propriedades incentivam seu uso largo do sistema ótico de Sapphire Al 2O3 nos ambientes hostis onde a transmissão ótica na escala do visível ao infravermelho próximo é exigida.

Agora a maioria dos cristais está crescendo do derretimento líquido. As substâncias as mais apropriadas a crescer de cristal de um derretimento têm que derreter sem decomposição, não têm nenhuma transição polimorfo e são caracterizadas pela baixa atividade química. O processo da cristalização de um derretimento é aplicado nos métodos os mais difundidos do crescimento monocrystalline da safira: a saber, o método horizontalmente dirigido da cristalização (HDC) e o método de Stepanov.

C-linha central de 4inch 0.5mm Sapphire Crystal Wafer Single Crystal Epi-pronta 0C-linha central de 4inch 0.5mm Sapphire Crystal Wafer Single Crystal Epi-pronta 1C-linha central de 4inch 0.5mm Sapphire Crystal Wafer Single Crystal Epi-pronta 2

PROPRIEDADES ÓTICAS

Transmissão

0,17 a 5,5 um

R.I.

1,75449 (o) 1,74663 (e) em 1,06 um

Perda de reflexão

em 1,06 mícrons (2 superfícies) para o-Ray - 11,7%; para e-Ray - 14,2%

Índice da absorção

0,3 x 10-3 cm-1 em 2,4 um

dN/dT

13,7 x 10-6 em 5,4 um

dn/dm = 0

1,5 um

PROPRIEDADES FÍSICAS

Densidade

3,97 g/cm3

Ponto de derretimento

2040 graus de C

Condutibilidade térmica

27,21 com (m x K) em 300 K

Expansão térmica

5,6 x 10 -6 /K (C-linha central paralela) & 5,0 (C-linha central perpendicular) x 10 -6 /K

Dureza

Knoop 2000 kg/mm 2 com o indenter 2000g

Capacidade de calor específico

419 j (quilograma x K)

Constante dielétrica

11,5 (C-linha central paralela) 9,4 (C-linha central perpendicular) em 1MHz

Módulo Young (e)

335 GPa

Módulo da tesoura (g)

148,1 GPa

Módulo de maioria (K)

240 GPa

Coeficientes elásticos

C11=496C12=164C13=115
C33=498C44=148

Limite elástico aparente

MPa 275 (40.000 libras por polegada quadrada)

Relação de Poisson

0,25

C-linha central de 4inch 0.5mm Sapphire Crystal Wafer Single Crystal Epi-pronta 3

Verificação de aceitação

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